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三星3nm GAA工艺良率低于4nm

时间:2022-04-23     来源:系统堂     游览量:

  自7nm工艺节点以来,三星在工艺研发和生产上一直不顺。近两年,5nm和4nm工艺生产的芯片在性能和良率上都出现了较大的问题。虽然三星已经高调制定了2021年半导体扩产计划,确认3nm工艺节点将引入新的GAAFET全环绕栅晶体管,并计划在2022年上半年量产第一代3nm工艺,似乎遇到了更大的困难。

三星3nm GAA工艺良率低于4nm

  据DigiTimes报道一份详述三星 3nm GAA 工艺和 GAA 技术的报告显示,3nm 工艺也有难度,良率徘徊在 10% 到 20% 之间,远低于预期。目前,三星在4nm工艺的生产上一直在苦苦挣扎。虽然已经拿到了骁龙8 Gen 1的订单,但是良品率只有35%左右。这也解释了为什么高通即使价格上涨,也打算将骁龙 8 Gen 1 Plus 的订单转移给台积电。如果三星在 3nm 工艺上的生产是真的,将很难拿下订单,很可能会失去高通、英伟达等大客户。

  消息人士称,三星将首先在自家芯片生产中使用3nm工艺,这很可能是Exynos系列的新品。三星移动业务总裁 TM Roh在内部会议上表示,将为 Galaxy 系列设备开发定制 SoC,目前尚不清楚是否相关。

  台积电计划在 N3 工艺节点仍使用 FinFET 晶体管,直到 N2 工艺节点才引入 GAA 技术,预计 2025 年底进入量产。目前没有消息称台积电因切换到 GAA 技术。总的来说,台积电在芯片生产质量上要优于三星。

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